Ausstattung
Halbleiterdepositionsanlagen
Nitrid-MOCVD
Showerhead OVPD
Bauelementprozessierung
UV-Lithographie
Spin-Coating und Entwickeln
Hochvakuumaufdampfen
E-beam and thermal evaporation
RTA
Rapid thermal anneal
ICP RIE
Inductively Coupled Plasma Reactive-ion Etching
MW barrel etch
PECVD
Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition
Wafer-Säge
Lift-off & clean
Charakterisierung
SEM / REM
Sekundärelektronenmikroskopie / Rasterelektronenmikroskopie
X-Ray diffraction
PL laboratory
Photoluminescence laboratory
OLED Charakterisierung
Reflektometer
On-wafer Hall
AFM
Atomic force microscopy
DC-IV-CV Prober
High Temperature DC-IV-CV
