Equipment
Semiconductor Material Deposition
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_1_nitride_movcd-1024x768.jpg)
Nitride MOCVD
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_1_showerhead_ovpd-1024x768.jpg)
Showerhead OVPD
Device Processing
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_uv-lithography-1024x768.jpg)
UV Lithography
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_spincoat_and_develop-1024x768.jpg)
Spincoating und Developing
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_e-beam_evaporation-768x1024.jpg)
HV Evaporation
E-beam and thermal evaporation
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_rta-768x1024.jpg)
RTA
Rapid thermal anneal
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_icp_rie-768x1024.jpg)
ICP RIE
Inductively Coupled Plasma Reactive-ion Etching
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_MW_barrel_etch-1024x768.jpg)
MW barrel etch
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_pecvd-768x1024.jpg)
PECVD
Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_wafer_dicer-768x1024.jpg)
Wafer Dicer
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_2_lift-off_and_cleaning-768x1024.jpg)
Lift-off & cleaning
Characterization
![](https://www.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/09/Ausstattung_3_sem-1-1024x768.jpg)
SEM / REM
Sekundärelektronenmikroskopie / Rasterelektronenmikroskopie
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_x-ray-diffraction-1024x768.jpg)
X-Ray diffraction
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_pl-1024x768.jpg)
PL laboratory
Photoluminescence laboratory
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_oled_characterization-1024x768.jpg)
OLED Characterization
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_photoreflectance-768x1024.jpg)
Photoreflectance
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_on-wafer_hall-1024x768.jpg)
On-wafer Hall
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_afm-1024x768.jpg)
AFM
Atomic force microscopy
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_DC-IV-CV_Prober-1024x768.jpg)
DC-IV-CV Prober
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_high_T_DC-IV-CV-1024x768.jpg)
High Temperature DC-IV-CV
![](http://wwwtest.cst.rwth-aachen.de/wp-content/uploads/2019/03/Ausstattung_3_pulsed_iv-1024x768.jpg)